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400-677-0098
真空烧结炉(碳化硅/氮化硅/氮化铝)
真空烧结炉(碳化硅/氮化硅/氮化铝)
产品描述:
该设备可用于陶瓷胚体和制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结等,也可用于陶瓷粉体材料的制备。具有卧式和立式两种结构,可选配脱脂系统。
应用范围:
碳化硅、氮化硅、氮化铝等陶瓷制品。

真空烧结炉(碳化硅/氮化硅/氮化铝)技术特征

采用顶立科技专属超高温、大电流引电技术,能在高温条件下长时间稳定使用;

采用特殊的高温红外测量技术,控温准确,误差。

配置专属密封马弗,产品产生的硅蒸汽等副产物对加热器及绝缘材料等的污染。

配备高效尾气处理装置,环境友好,易清理;

该设备可选择配置脱脂系统,实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理。

真空烧结炉(碳化硅/氮化硅/氮化铝)产品规格

参数\型号 卧式真空烧结炉(碳化硅/氮化硅/氮化铝) 立式真空烧结炉(碳化硅/氮化硅/氮化铝)
HVSF-050511 HVSF-060612 HVSF-100612 HVSF-100825 HVSF-100840 VVSF-0612 VVSF-0918 VVSF-1120
工作区尺寸 W×H×L(mm) 500×500×1100 600×600×1200 1000×600×1200 1000×800×2500 1000×800×4000 φ600×1200 φ900×1800 φ1100×2000
最高温度(℃) 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400
温度均匀性(℃) ±5 ±5 ±10 ±10 ±10 ±7.5 ±7.5 ±7.5
极限真空度(Pa) 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100
压升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

真空烧结炉(碳化硅/氮化硅/氮化铝)配置选择

炉门:丝杆升降/液压升降/手动升降;手动锁紧/自动锁圈锁紧

炉壳:全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢

炉胆:软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC

加热器、马弗:等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨

热电偶:C分度号/S分度号/R分度号/B分度号

红外仪:单比色/双比色;千野/雷泰

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高性能陶瓷热工装备
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