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400-677-0098
立式真空水淬炉
立式真空水淬炉
产品描述:
立式真空水淬炉主要用于航空航天行业中的钛合金固溶处理,如TC4、TC16、TC18、TC21等材料,仪表弹性元件中的铍青铜固溶处理、航天传感器中的镍基、钴基高弹性合金3J1、3J21和镍基恒弹性合金3J53等精密合金固溶处理,核能领域中17-4PH、410等不锈钢的固溶处理等。
应用范围:
钛合金固溶处理(如TC4、TC16等)、镍基、钴基高弹性合金3J1、3J21和镍基恒弹性合金3J53等

立式真空水淬炉技术特征

炉体是立式双室结构,依据实际状况可选择一体式结构或分体式结构;

工件承载方式:承载式,相比其它吊柜式结构更安全;

加热室采用钼屏结构;钼加热带采用背绝缘技术;

全过程不需要惰性气体参与,Ar气消耗量为零;

配置一个装料室,可实现连续化生产;

炉胆经?榛呕杓,炉温均匀性好;

垂直升降料车构成的淬火机构,相比卧式传动淬火机构转移时间更短;

专有技术,无须充入其它气体压制水蒸气,彻底防治水蒸气进入加热室并杜绝真空泵组污染;

淬火配置制冷机,水温可达5℃水淬效果更佳;

并且具有可扩展性,提高生产效率;

水蒸气对加热室和真空机组零污染。

立式真空水淬炉产品规格

参数\型号 VVWQ-3030D VVWQ-4040D VVWQ-5050D VVWQ-6060D VVWQ-8060D
有效热区 D×H(mm) 300×300 400×400 500×500 600×600 800×600
装载重量(Kg) 50 75 150 200 300
加热功率(Kw) 60 90 120 150 210
最高温度(℃) 1350 1350 1350 1350 1350
温度均匀性(℃) ±5 ±5 ±5 ±5 ±5
真空度(Pa) 4×10-3/6×10-4 4×10-3/6×10-4 4×10-3/6×10-4 4×10-3/6×10-4 4×10-3/6×10-4
压升率(Pa/h)
≤0.26 ≤0.26 ≤0.26 ≤0.26 ≤0.26
≤0.67 ≤0.67 ≤0.67 ≤0.67 ≤0.67
移送时间(S) ≤6 ≤6 ≤6 ≤6 ≤6
淬火介质 纯净水 纯净水 纯净水 纯净水 纯净水

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

立式真空水淬炉配置选择

双室垂直结构形式:整体式、加热室移动式、水槽移动式

炉胆:钼加热元件与全金属隔热屏合成结构

真空泵组和真空计: 进口、高品质国产

PLC:西门子、欧姆龙、三菱

控温仪表:岛电、欧陆、霍尼韦尔

热电偶:K型分度号、N型分度号、S型分度号

记录仪:有纸记录仪、无纸记录仪

人机界面:模拟屏、计算机触摸屏

电器元件:高品质国产、施耐德、西门子

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